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2026.02.09

半导体超纯水全硅检测标准与赢润环保解决方案

在半导体晶圆制造过程中，超纯水中的硅污染物会引发栅极氧化层缺陷，导致芯片漏电率上升30%以上。某28nm晶圆厂的生产数据表明，超纯水中全硅含量每超标1μg/L，光刻工序良率就会下降8%。因此，借助超纯水全硅检测仪和硅表实施实时监测，已成为半导体制造过程中必不可少的质量控制手段。超纯水二氧化硅检测仪能够精确检测微克级的硅污染，为晶圆制造提供关键的水质保障。

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